新型混合型EUV光刻胶;抗体疗法。
新型混合型EUV光刻胶
美国能源部(DOE)宣布了最近一项创业技术竞赛的优胜者，包括开发一种新的EUV混合抗蚀剂和抗体治疗平台。
这个事件叫做国家实验室加速器活动美国能源部国家实验室的11名研究人员参与了一场竞赛。研究人员向投资者推销各种技术和商业模式。
两位获奖者分别是布鲁克海文国家实验室的科学家Nam Chang-Yong和桑迪亚国家实验室的高级技术人员Brooke Harmon。南昌圭提出了一种商业化技术的商业模式VIPP:极端(EUV)光刻技术用于下一代半导体制造的蒸汽渗透光刻胶工艺．VIPP承诺解决有机光抗蚀剂的EUV灵敏度和耐蚀性问题。
哈蒙提出了所谓的新兴病毒抗体疗法的发现、设计和工程平台。这解决了与传统抗体作为治疗方法相关的挑战。
国家实验室加速器活动展示了各种准备商业化的技术。在过去的一年里，来自美国能源部国家实验室的研究人员开发了商业模式和推介文稿。所有的球场都可以在LLNL创新与合作办公室YouTube频道．
Brookhaven的Nam设计了一种改善EUV光刻电阻的方法。光刻设备用于在芯片上绘制微小特征的图案，使芯片制造商能够在高级节点上开发更小、更快的设备。
如今，芯片制造商正在使用EUV开发7nm和5nm节点的芯片，其中3nm节点处于研发阶段。阻光剂是用来制作图案的光敏材料。
今天的EUV抵抗工作，但这里有各种各样的权衡和挑战。“碳是我们目前用于EUV光刻的有机光抗蚀剂的主要元素，它对EUV光的灵敏度非常低，”Nam解释说。“由于这种敏感性，我们需要将电阻长时间暴露在EUV光下。如此长的曝光时间限制了我们每小时可以加工的晶圆数量。”
还有其他EUV抗蚀剂类型。例如，金属氧化物EUV具有更好的灵敏度，但它们不太成熟。更重要的是，抵抗者还没有准备好下一代EUV技术称为高na EUV这部电影计划于2025年投产。
这就是VIPP的用武之地。锌或锡等无机元素具有很高的EUV灵敏度和耐蚀性，使用蒸汽处理技术将其注入到现有的有机光抗蚀剂中。这种无机化合物的组成不需要复杂的化学合成就可以控制。
更具体地说，根据Nam和其他人提交的专利，VIPP涉及一种“将金属渗透到抗蚀剂材料中，以提供金属渗透抗蚀剂材料”的方法。(该过程涉及)使用原子层沉积工具的气相渗透，或液相渗透。
据称，该技术具有高灵敏度和良好的分辨率。它还可以实现高蚀刻速率。南和他的团队目前正在寻找行业合作伙伴，将这项技术商业化。他表示:“我们将根据制造要求，在灵敏度、分辨率、缺陷等技术规格方面成熟技术，并将其授权给半导体制造企业。”“几家半导体公司已经确认了关键的市场需求，并对我们的技术表示了兴趣。”
Nanobodies
与此同时，在桑迪亚，哈蒙设计一个平台对抗新出现的病毒。一些疗法，如单克隆抗体，很受欢迎，但也存在一些挑战。
桑迪亚开发了一个平台来应对这些挑战。该平台或库涉及纳米体。Sandia说:“纳米体是单域重链抗体(sdAbs)的目标结合区域，来源于骆驼类。”
“通过新型DNA合成技术，我们的人工合成纳米体库具有极大的多样性，这是一种新型治疗发现的强大方法。有了这个库，高灵敏度和抗原特异性的纳米体可以在4个月内被识别和验证，”Sandia说。
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
留下回复