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光学CD的新维度


纳米级制造的最大挑战之一是如何在如此微小的尺度上测量设备。随着半导体行业对更小器件的需求,对可靠、可靠的质量控制和工艺优化测量的需求也在增加。在半导体制造中,一种稳健且常用的技术是光学临界尺寸(OCD)测量。标准,艾尔……»阅读更多

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